解剖基础|脑沟脑回学无止境

解剖基础|脑沟脑回学无止境l前旁嗅沟=胼胝体下沟l 中央沟=Rolando裂l 额下回=三角回l 脑岛=reil岛l 顶内沟=顶间沟l 舌回=枕颞内侧回l 枕颞外侧回=梭

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by 吴晓安

一、脑沟与回相关术语的一些习惯

1. 脑表面解剖命名经常会用到许多同义词。裂“fissure”与沟“sulcus”经常互为通用。

l 前旁嗅沟=胼胝体下沟(Anterior parolfactory sulcus = subcallosal sulcus)

l 中央沟=Rolando裂(Central sulcus = fissure of Rolando, rolandic fissure)

l 额下回=三角回(Inferior frontal gyrus = triangular gyrus)

l 脑岛=reil岛(Insula = island of Reil)

l 顶内沟=顶间沟(Intraparietal sulcus = interparietal sulcus)

l 舌回=枕颞内侧回(Lingual gyrus = medial occipitotemporal gyrus ,MOTG)

l 枕颞外侧回=梭状回(Lateral occipitotemporal gyrus (LOTG) = overlaps with fusiform gyrus)

l 枕中沟=枕外侧沟(Middle occipital sulcus = lateral occipital sulcus, prelunatesulcus )

l 枕前切迹=颞枕切迹=颞枕弧(Preoccipitalnotch = temporo-occipital incisure, temporo-occipital arcus)

l Sylvian裂=外侧裂(Sylvian fissure = lateral fissure)

2. 一种独特的命名经常用于表面的脑回

额叶Frontal lobe

  • F1: 额上回(Superior frontal gyrus)
  • F2:额中回(Middle frontal gyrus)
  • F3: 额下回(Inferior frontal gyrus)

顶叶Parietal lobe

  • Pa: 顶升回(中央后回)[Ascending parietal gyrus (postcentral gyrus)]
  • P1: 顶上小叶(Superior parietal lobule)
  • P2: 顶下小叶(Inferior parietal lobule)

枕叶Occipital lobe

  • O1:枕上回(Superior occipital gyrus)
  • O2:枕中回(Middle occipital gyrus)
  • O3: 枕下回(Inferior occipital gyrus)
  • O4: 枕颞外侧回枕后内部Posterior intraoccipital portion of the LOTG
  • O5: 舌回(枕颞内侧回) [Lingual gyrus (medial occipital-temporal gyrus)]
  • O6: 楔叶(Cuneus)

颞叶Temporal lobe

  • T1: 颞上回(Superior temporal gyrus)
  • T2: 颞中回(Middle temporal gyrus)
  • T3: 颞下回(Inferior temporal gyrus)
  • T4: 枕颞外侧回颞前内部(Anterior intratemporal portion of the LOTG)
  • T5: 海马旁回(Parahippocampal gyrus)

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二、按一定顺序和规律定位脑沟回

1、上面观识别脑沟和脑回:

2、大脑半球背外侧面脑沟回定位:

可首先识别外侧裂,然后根据各脑沟回形状与外侧裂的相互关系来定位特定的脑沟脑回。

①确定外侧裂(sylvian fissure)的5个主要分支。

  • 典型侧裂的长斜线实际上被称为侧裂的后水平支(posterior horizontal ramus)。
  • 在外侧裂的前端,外侧裂的前水平支(anterior horizontal ramus)和前升支(anteriorascending ramus)呈大写字母V或Y的形状,上升到额叶。
  • 在侧裂的后端,分叉成后升支和后降支(posterior ascending and posterior descending rami),分别伸入顶叶和颞叶。
  • 在外侧裂的上表面,有两个小分支,即下中央前支(anterior subcentral ramus)和下中央后支(posteriorsubcentral ramus)。
  • 在外侧裂的下表面,有几个颞横沟(transverse temporal sulci)划定了Hechl‘s颞横回的后缘(posterior margin of the transverse temporal gyrus of Heschl)。识别侧裂臂(arms of the sylvian fissure)建立了参照系和侧面各部分之间的比例。

②三角回征(Triangular gyrussign)。

  • 额叶下回呈三角形,正式命名为三角回(triangular gyrus)。这种形状与其他额叶回的纵向和垂直形状完全不同,有助于识别额叶下回。

③M形标志(M sign)。

  • 前水平和前升支的V或Y切入额下回三角部,形成字母M的形状。从前到后,M的三个部分是与额叶下表面的眶回相邻的眶部、中间的三角部和作为额盖的盖部。小三角沟(small triangular sulcus)通常在三角部(parstriangularis)形成凹槽。一个小的斜沟,通常在盖部形成凹槽。

3、大脑半球内侧面脑沟回定位:

4、大脑半球底面脑沟回定位:

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三、大脑半球标本连续切片学习断层

1、水平位连续切片

2、矢状位连续切片

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四、T2WI反相图学颅脑断层解剖

以下图片均来自我院3.0T核磁共振的T2WI反相图。标注均为我自己完成,水平有限,难免有误,还望各位老师多多指正。谢谢。

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参考书目:
《imaging of the brain》《Applied Cranial-Cerebral Anatomy 1stEdition》

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