±50nm气浮平台有多牛？是晶圆切割最难的底层技术

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近日，重复定位精度达到±50nm的超精密气浮平台研发成功，这对半导体晶圆制造来说，是个大好消息。纳米级气浮平台在半导体制造中，应用于晶圆切割、检测、封装等工艺环节，气浮平台达到了±50nm超高精的重复定位精度，是晶圆制造中难度极高的底层技术。

超精密气浮平台的主要原理

气浮平台是由空气轴承结合电控元件构成的精密位移平台，主要构成部分包括底座、导轨、气浮滑块和顶板等，是作为精密定位的部件，承载需要作精密定位的零件或工具。气浮平台采用直线电机驱动，定位平台的悬浮工作原理是在供气孔道中通入一定气压的压缩空气，气体经过节流孔在气浮滑块与导轨、底座的相对面中形成 10μm 左右的气膜并产生一定的悬浮力，气膜支撑气浮滑块与顶板组成的滑台作一维直线运动，当悬浮力与实验平台重量平衡时，这个运动平台处于稳定悬浮状态。

相对于传统机械接触式滑轨，气浮导轨靠气体静压将气浮模块支撑起来，而气体与气浮模块之间的摩擦力几乎为零，可以忽略不计。另外，气浮模块和气浮导轨之间具有一定弹性，可降低对气浮导轨表面的加工精度，方便加工制造。

重复定位精度达±50nm的气浮平台采用“济南青”石料经精密机械加工，结构精密，质地均匀坚硬，耐磨性强，形态极为稳定，强度大，硬度高，无磁性反应，无塑性变形，是理想的基准面，可以获得高而稳定的精度。

超精密气浮平台的特点和背景介绍

超精密气浮平台的产品特点：

1.非接触式气浮结构。

2. 高直线、平面度指标。

3.精密光栅尺闭环反馈。

4. 外观结构紧凑。

背景介绍：

1.±50nm超精密气浮平台是目前国内性能卓越的气浮直线台之一，可作为单轴使用，或根据应用与其它轴组装成系统，广泛应用于精密加工，测试测量，扫描、半导体及光子学等行业。

2.采用非接触式气浮导轨、直线电机驱动和光栅尺反馈装置组成整个系统，可免维护运行。因为运动元件间没有机械接触，随着时间的推移，不会出现磨损或性能下降，使用寿命长。

3. 气浮导轨不需要润滑，只需要清洁及干燥的气体，是客户应用的理想选择。

4. 气浮导轨基于气体动静压效应，实现无摩擦和无振动的平滑移动，与摩擦式导轨相比，气浮平台的直线度、平面度等指标得到了很大提高，同时由于非接触式，伺服反馈的跟随误差有了质的飞跃，定位精度和重复定位精度得到了显著提高。

克洛诺斯纳米级气浮平台晶圆检测系统解决方案：

需要精密定位的工艺环节，都需要高精度的电机驱动控制和导轨。晶圆切割要在极短的曝光时间内完美定位，就需要靠精密机械运作和实时的定位校正，纳米级超精密气浮平台借由非接触式气浮导轨结构、直线电机驱动的移动方式，高平面度指标保证了理想的切割直线，同时能够实现高动态响应和快速位置整定，能达成极高速的运动和持久稳定的运作，在半导体晶圆切割等精密应用中，是理想选择。

经过多年精密运动平台的技术积累和沉淀，已形成了一整套完备的精密运动平台系统的研发和生产体系，特别在气浮理论计算、结构优化设计、精密集成组装和测试等方面具备雄厚的实力。