和舰芯片取得一种物理气相沉积机台专利,提升产品的品质

和舰芯片取得一种物理气相沉积机台专利,提升产品的品质金融界 2025 年 8 月 16 日消息 国家知识产权局信息显示 和舰芯片制造 苏州 股份有限公司取得一项名为 一种物理气相沉积机台 的专利 授权公告号 CNU 申请日期为 2024 年 09 月

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金融界2025年8月16日消息,国家知识产权局信息显示,和舰芯片制造(苏州)股份有限公司取得一项名为“一种物理气相沉积机台”的专利,授权公告号CNU,申请日期为2024年09月。

专利摘要显示,本实用新型公开了一种物理气相沉积机台,机台包括沉积腔,机台还包括:隔离环,其设置于沉积腔顶部,隔离环的横截面为梯形,隔离环的内侧具有向外侧延伸的第一开口,隔离环外侧具有第二开口;以及卡接环,其套设于沉积腔的外侧,用于与沉积腔卡接。

天眼查资料显示,和舰芯片制造(苏州)股份有限公司,成立于2001年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本.57万人民币。通过天眼查大数据分析,和舰芯片制造(苏州)股份有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目20次,财产线索方面有商标信息18条,专利信息395条,此外企业还拥有行政许可26个。

本文源自金融界

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