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金融界2025年7月18日消息，国家知识产权局信息显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“光学邻近修正模型的建模方法、光学邻近修正方法”的专利，公开号CNA，申请日期为2025年06月。
专利摘要显示，一种光学邻近修正模型的建模方法、光学邻近修正方法，其中建模方法包括：提供若干明场测试图形和若干暗场测试图形；获取实际版图中明场区域和暗场区域的数量占比；抽取相同比例的明场测试图形和暗场测试图形；根据抽取的明场测试图形与对应的明场光刻胶图形、以及抽取的暗场测试图形与对应的暗场光刻胶图形之间的特征尺寸差异，建立光学邻近修正模型。基于实际版图中明场区域和暗场区域的数量占比进行采样相同比例的明场测试图形和暗场测试图形，以此为理论基础建立的光学邻近修正模型中的光酸扩散长度具有较高的针对性，有效提升实际版图对应的光酸扩散长度的精度，通过光学邻近修正模型对实际版图进行光学修正，能够有效提高光学邻近修正精度。
天眼查资料显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本.7759万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目910次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可429个。
本文源自金融界
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